Патриотам РФ Россия — нам есть чем гордиться!
Научно-исследовательские институты Зеленограда НИИМЭ и НИИТМ создали первое в стране кластерное оборудование для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Эти установки позволят производить интегральные микросхемы с топологическими нормами 65 нм на пластинах размером 200 мм и 300 мм.
Российские организации теперь входят в ТОП-5 мировых компаний, которые обладают компетенциями в разработке и производстве подобного типа оборудования.
Оборудование для техпроцесса 65 нм на 300 мм пластинах удовлетворит потребности отечественной микроэлектроники. Модульность платформы является ключевым моментом: она позволяет настроить процессы на существующем оборудовании и является основой для перехода на более современные техпроцессы. Модульная структура обеспечивает гибкую конфигурацию оборудования в зависимости от требований и производственной мощности. Все перечисленные факторы способствуют снижению себестоимости продукции и повышению качества чипов.
В будущем разработанные и аттестованные в рамках проекта базовые технологические процессы осаждения и травления диэлектрических слоев смогут быть адаптированы под существующие технологии и способствовать разработке более перспективных, включая 28 нм.
Источник: @vremyavperedrus
