Новости по запросу: 65 нм

Научно-исследовательские институты Зеленограда НИИМЭ и НИИТМ создали первое в стране кластерное оборудование для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Эти установки позволят производить интегральные микросхемы с топологическими нормами 65 нм на пластинах размером 200 мм и 300 мм. Российские организации теперь входят в ТОП-5 мировых компаний, которые обладают компетенциями в разработке и производстве подобного типа оборудования. Оборудование для техпроцесса …