
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработал установку электронно-лучевой литографии, способную работать с проектными нормами 150 нанометров. Оборудование предназначено для безмасковой литографии — изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования маски.
Опытные образцы установки уже созданы и в настоящее время проходят испытания. Разработка позволяет повысить точность и эффективность процессов в микроэлектронике, особенно на этапе литографии.
Источник: @sdelanounas_ru