ЗНТЦ создал установки электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм

ЗНТЦ создал установки электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработал установку электронно-лучевой литографии, способную работать с проектными нормами 150 нанометров. Оборудование предназначено для безмасковой литографии — изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования маски.

Опытные образцы установки уже созданы и в настоящее время проходят испытания. Разработка позволяет повысить точность и эффективность процессов в микроэлектронике, особенно на этапе литографии.

Источник: @sdelanounas_ru

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *