Новости по запросу: плазмохимическое травление

Российские специалисты разработали первые отечественные кластерные установки для плазмохимического травления и осаждения, предназначенные для производства микрочипов с проектными нормами до 65 нм. Это оборудование может обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции, такие как нанесение тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния) и плазмохимическое травление для создания наноструктур. Одной из ключевых особенностей является работа в вакууме, что …