
Новосибирская фирма «Оптические системы» сообщила о создании собственной лазерной системы для нанесения шаблонов с использованием ультрафиолетового излучения при производстве микросхем.
Пробная версия устройства проходит испытания на белорусском предприятии электронной промышленности «Планар», которое участвует в разработке полностью отечественного литографа.
По словам разработчиков, новая система способна заменить американские лазеры Coherent с длиной волны 257 нанометров, применяемые на сегодняшний день. В состав программно-аппаратного комплекса входят лазер с мощностью от 10 до 30 милливатт и волоконный усилитель, увеличивающий мощность до 15 ватт.
Дальнейшие испытания и внедрение планируются для повышения автономности и безопасности отечественного производства микросхем.
Источник: @sdelanounas_ru