Главная > Технологии > Запуск производства компонентов для микроэлектроники в Томске

Запуск производства компонентов для микроэлектроники в Томске

Запуск производства компонентов для микроэлектроники в Томске

На базе Инжинирингового химико-технологического центра Томского государственного университета начато производство высокочистого бромистого водорода и тетракис(диметиламино)титана. Это позволит удовлетворить потребности российских компаний, занимающихся производством компонентов для микроэлектроники. Первые партии этих веществ успешно прошли тестирование на отечественных предприятиях.

Бромистый водород используется для очистки кремниевых пластин, которые являются основой для интегральных микросхем. Ранее это вещество импортировалось из-за границы. Однако в 2023–2024 годах ученые ТГУ разработали технологию производства и очистки бромистого водорода с использованием только российских реагентов, что обеспечивает автономность в его производстве.

Кроме того, была создана новая технология для синтеза тетракис(диметиламино)титана, известного как TDMAT. Это соединение необходимо для создания сложных электронных устройств и применяется для химического осаждения нитрида титана. TDMAT критически важен для сектора полупроводников, но также на него проявляют интерес и другие отрасли, такие как оптика и производство композиционных материалов. Первые поставки TDMAT уже осуществлены для российских производителей.

Источник: @vremyavperedrus

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *