Новости по запросу: плазмохимическое осаждение

Российская компания НИИТМ из Зеленограда представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых подложках. Это оборудование имеет важное значение для развития микроэлектронной отрасли в России. До этого времени такие установки закупались за границей, а существующие местные аналоги могли работать только с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и повышало их себестоимость. Работы над проектом ...