Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде, успешно завершила разработку и продемонстрировала опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование становится важным шагом в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее аналогичное оборудование приобреталось за границей, тогда как имеющиеся российские версии были рассчитаны на пластины меньшего диаметра, что ограничивало объемы производства чипов и повышало их стоимость. Новое ...
Читать далее »Новости по запросу: микроэлектроника
Первый российский фотолитограф с разрешением 350 нм
Запущен первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм Компания, являющаяся резидентом Особой экономической зоны «Технополис Москва», разработала в России свой первый фотолитограф с разрешением 350 нм в партнерстве с белорусским заводом «Планар». В мире существует менее десяти стран, способных производить такое важное оборудование для создания микросхем, и теперь Россия входит в этот список. Это значительный шаг к осуществлению собственного ...
Читать далее »Создание первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм
Зеленоградский центр микроэлектроники Группы «РОСНАНО» успешно завершил исследовательскую и конструкторскую работу по разработке первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм. Литограф служит основным компонентом в производстве микросхем, используемых в таких областях, как автомобильная промышленность, аэрокосмика, промышленная автоматизация и потребительская электроника. К ключевым особенностям новой установки относятся: Увеличенная площадь рабочего поля — 22×22 мм (в сравнении с 3,2×3,2 мм). Максимальный диаметр ...
Читать далее »Первая установка плазмохимического осаждения в России на 300-мм кремниевых платах
Российская компания НИИТМ из Зеленограда представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых подложках. Это оборудование имеет важное значение для развития микроэлектронной отрасли в России. До этого времени такие установки закупались за границей, а существующие местные аналоги могли работать только с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и повышало их себестоимость. Работы над проектом ...
Читать далее »Поддержка архитектуры Risc-V: просьба разработчиков микроэлектроники к правительству
Альянс производителей микроэлектроники обратился к правительству с просьбой о помощи для открытой процессорной архитектуры Risc-V. Участники этого сектора просят о поддержке в виде налоговых льгот, правила «второй лишний» в государственных закупках, а также приоритетную закупку оборудования на основе архитектуры Risc-V. Конкурирующие компании подчеркивают, что льготы должны распространяться на все отечественные процессоры. Однако эксперты отмечают, что консорциум Risc-V имеет корни в ...
Читать далее »Разработка нового фоторезиста для микроэлектроники в России
Компания Микрон, один из ведущих производителей микроэлектроники в России, проводит испытания нового высокочувствительного фоторезиста, который произведен в стране и предназначен для техпроцессов на уровне 90 нм. Фоторезист представляет собой светочувствительный полимерный материал, необходимый для фотолитографического процесса. Этот материал позволяет создавать на поверхности обрабатываемого вещества «окна», через которые будут вноситься травящие вещества, играющие критически важную роль в производстве интегральных микросхем. В ...
Читать далее »Крупный шаг в развитии отечественной микроэлектроники
Компания «Микрон» тестирует первый отечественный фоторезист для 90 нм производства. «Микрон», ведущий российский производитель микроэлектроники, входящий в группу компаний «Элемент» и резидент особой экономической зоны «Технополис Москва», успешно завершил испытания своего первого высокочувствительного фоторезиста, предназначенного для технологических процессов с использованием 90 нм. Это важный шаг вперед в развитии российской микроэлектроники и в обеспечении технологической независимости страны. В производственных процессах компании ...
Читать далее »Запуск производства компонентов для микроэлектроники в Томске
На базе Инжинирингового химико-технологического центра Томского государственного университета начато производство высокочистого бромистого водорода и тетракис(диметиламино)титана. Это позволит удовлетворить потребности российских компаний, занимающихся производством компонентов для микроэлектроники. Первые партии этих веществ успешно прошли тестирование на отечественных предприятиях. Бромистый водород используется для очистки кремниевых пластин, которые являются основой для интегральных микросхем. Ранее это вещество импортировалось из-за границы. Однако в 2023–2024 годах ученые ...
Читать далее »Эволюция ОЭЗ «Технополис Москва» в 2024 году: новые технологии и резиденты
В 2024 году ОЭЗ «Технополис Москва» пополнилась новыми производителями, работающими в сферах медицины, аккумуляторов, беспилотной техники и микроэлектроники. Производственные компании, расположенные на площади 390 гектаров, продолжают разрабатывать уникальные решения, включая микроэлектронику, системы бесперебойного питания, спутники для космических исследований, препараты для лечения редких болезней и лазерные станки. Благодаря выгодным условиям работы и государственной поддержке, особая экономическая зона становится всё более привлекательной ...
Читать далее »Крупное производство силовой микроэлектроники в России
В России стартовало серийное производство компонентов силовой микроэлектроники для гражданского сектора. Объем инвестиций составляет 19,5 миллиарда рублей. Реализацией проекта занимается компания «Элемент», известная разработкой и изготовлением интегральных микросхем, полупроводниковых приборов и модулей. Новое учреждение станет первым в стране крупным серийным заводом по производству кристаллов силовых диодов и транзисторов на базе кремния и карбида кремния, с использованием современных технологий для создания ...
Читать далее »