Главная > Новости по запросу: фотолитограф

Новости по запросу: фотолитограф

Первый российский фотолитограф с разрешением 350 нм

Первый российский фотолитограф с разрешением 350 нм

Запущен первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм Компания, являющаяся резидентом Особой экономической зоны «Технополис Москва», разработала в России свой первый фотолитограф с разрешением 350 нм в партнерстве с белорусским заводом «Планар». В мире существует менее десяти стран, способных производить такое важное оборудование для создания микросхем, и теперь Россия входит в этот список. Это значительный шаг к осуществлению собственного ...

Читать далее »

Создание первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм

Создание первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм

Зеленоградский центр микроэлектроники Группы «РОСНАНО» успешно завершил исследовательскую и конструкторскую работу по разработке первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм. Литограф служит основным компонентом в производстве микросхем, используемых в таких областях, как автомобильная промышленность, аэрокосмика, промышленная автоматизация и потребительская электроника. К ключевым особенностям новой установки относятся: Увеличенная площадь рабочего поля — 22×22 мм (в сравнении с 3,2×3,2 мм). Максимальный диаметр ...

Читать далее »