Создание первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм

Зеленоградский центр микроэлектроники Группы «РОСНАНО» успешно завершил исследовательскую и конструкторскую работу по разработке первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм.

Литограф служит основным компонентом в производстве микросхем, используемых в таких областях, как автомобильная промышленность, аэрокосмика, промышленная автоматизация и потребительская электроника. К ключевым особенностям новой установки относятся:

• Увеличенная площадь рабочего поля — 22×22 мм (в сравнении с 3,2×3,2 мм).
• Максимальный диаметр обрабатываемых пластин возрос до 200 мм (против 150 мм ранее).
• Впервые применён твердотельный лазер, который отличается высокой мощностью, энергоэффективностью и долговечностью, а также более узким спектром (в то время как в международной практике для таких литографов обычно используется ртутная лампа).

В комиссии по приёмке участвовали специалисты из ведущих отраслевых организаций и крупных производителей микроэлектроники. В качестве соисполнителя была задействована белорусская компания ПЛАНАР, обладающая значительным научно-техническим опытом на постсоветском пространстве.

На данный момент в разработке находится установка совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Ожидается, что работа будет завершена к 2026 году.

Источник: @rosnanoinfo