Компания Микрон, один из ведущих производителей микроэлектроники в России, проводит испытания нового высокочувствительного фоторезиста, который произведен в стране и предназначен для техпроцессов на уровне 90 нм.
Фоторезист представляет собой светочувствительный полимерный материал, необходимый для фотолитографического процесса. Этот материал позволяет создавать на поверхности обрабатываемого вещества «окна», через которые будут вноситься травящие вещества, играющие критически важную роль в производстве интегральных микросхем.
В процессе производства на предприятии Микрона используется 43 высокочистых химических вещества и 39 специализированных газов, для которых ведется активная замена на отечественные аналоги.
Программа импортозамещения материалов включает более 16 российских компаний и научных учреждений. Новый фоторезист производят на одном из заводов Приволжского федерального округа, который является крупнейшим центром химической промышленности в стране, обеспечивая более 40% всего объема производства российских химических материалов.
Источник: @vremyavperedrus