Первый российский фотолитограф с разрешением 350 нм

Запущен первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм

Компания, являющаяся резидентом Особой экономической зоны «Технополис Москва», разработала в России свой первый фотолитограф с разрешением 350 нм в партнерстве с белорусским заводом «Планар». В мире существует менее десяти стран, способных производить такое важное оборудование для создания микросхем, и теперь Россия входит в этот список. Это значительный шаг к осуществлению собственного производства микроэлектроники и обретению полной технологической независимости.

Мэр города отметил, что новое оборудование «существенно отличается от зарубежных аналогов», поскольку для его работы использован твердотельный лазер в качестве источника излучения.

В настоящее время также осуществляется работа над фотолитографом с разрешением 130 нм, который планируется завершить в ближайшее время.

Источник: @sdelanounas_ru