Первая установка плазмохимического осаждения в России на 300-мм кремниевых платах

Российская компания НИИТМ из Зеленограда представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых подложках. Это оборудование имеет важное значение для развития микроэлектронной отрасли в России. До этого времени такие установки закупались за границей, а существующие местные аналоги могли работать только с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и повышало их себестоимость.

Работы над проектом начались в 2021 году, и за менее чем четыре года специалистам удалось разработать и ввести в эксплуатацию функциональный образец. Новая установка поддерживает...

Источник: @sdelanounas_ru