Патриотам РФ Россия — нам есть чем гордиться!
Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде, успешно завершила разработку и продемонстрировала опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование становится важным шагом в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее аналогичное оборудование приобреталось за границей, тогда как имеющиеся российские версии были рассчитаны на пластины меньшего диаметра, что ограничивало объемы производства чипов и повышало их стоимость.
Новое оборудование совместимо не только с текущими 350-нм техпроцессами, которые могут быть реализованы на отечественном уровне, но и с перспективными технологиями, включая создание интегральных схем с топологией 28 нанометров.
В 2025 году планируется провести испытания данного оборудования в НМИЭ.
Источник: @achievementsofrussia
