Новости по запросу: Институт Пластмасс

Испытания отечественного материала для микросхем

Испытания отечественного материала для микросхем

GS Nanotech провела испытания российского материала для корпусирования микросхем. Этот аналог был разработан коллективом ученых МИЭТ в сотрудничестве с институтом пластмасс им. Г. С. Петрова и ФИЦ ПХФ и МХ РАН. На предприятии GS Nanotech его протестировали и использовали при корпусировании кристаллов в корпусе FCBGA 255. Результаты испытаний продемонстрировали успешность на уровне зарубежных аналогов. Данный заливочный материал называется «андерфилл». Он …

Читать далее »

Первый отечественный компаунд от GS Nanotech

Первый отечественный компаунд от GS Nanotech

GS Nanotech испытал первый отечественный компаунд На производственной базе GS Nanotech успешно завершены испытания первого отечественного молд-компаунда. Он создан в рамках опытно-конструкторской работы, которую выполняют НИУ МИЭТ совместно с АО «Институт Пластмасс», ФИЦ ИПХФ и МХ РАН. В настоящее время при корпусировании российские предприятия в основном используют компаунды китайского производства. Появление полноценного отечественного аналога является важным шагом в направлении достижения …

Читать далее »